Технология плазменной химико-термической обработки
Насыщение поверхности обрабатываемых деталей азотом (азотирование), углеродом (карбонизация), бором (борирование), кадмием (кадмирование) или несколькими элементами одновременно (карбоазотирование). При обработке детали погружаются в плазму тлеющего разряда, горящего между катодом (деталями) и анодом (стенками вакуумной камеры) и содержащего необходимый элемент. Наиболее востребован процесс плазменного азотирования (азотирование в тлеющем разряде, ионно-плазменное азотирование). Назначение Увеличение износостойкости и коррозионной стойкости деталей. Выбор Определяется заданной глубиной насыщающего элемента в объеме детали под действием термически активируемой диффузии, скорость которой зависит от температуры обработки и градиента насыщающего элемента.
Перспективным направлением дополнительного повышения износостойкости деталей, обработанных с использованием плазменного азотирования, является последующее нанесение тонкопленочных трибологических покрытий с использованием PVD и CVD процессов. Отличительные характеристики сокращение продолжительности обработки в 2-5 раз, за счет большей скорости насыщения; экономичность процесса, за счет сокращения расхода рабочих газов в 20-100 раз; повышение коэффициента использования электроэнергии, за счет уменьшения расхода электроэнергии в 1,5-3 раза; возможность качественной обработки глухих и сквозных отверстий; простота и надёжность экранной части где нужна защита от азотирования не упрочняемых поверхностей; незначительные деформации изделий в процессе обработки и изменение параметров шероховатости, меньшие температуры; получение равномерного по толщине азотированного слоя на всех поверхностях изделий; улучшение санитарно-гигиенических условий производства.
