Южнокорейский гигант Samsung, по сообщениям сетевых источников, завершил разработку 7-нанометровой технологии производства микрочипов существенно раньше намеченных сроков.
Речь идёт об изготовлении 7-нм изделий с применением методики EUV — литография в глубоком ультрафиолете. Ранее предполагалось, что разработка этой технологии будет завершена во второй половине текущего года. Но теперь говорится, что компания смогла опередить график примерно на полгода.
Таким образом, уже в третьем квартале Samsung сможет внедрить EUV-литографию при изготовлении 7-нанометровых решений. По этой технологии, как ожидается, будет производиться будущий процессор Qualcomm Snapdragon 855, который, предположительно, ляжет в основу ряда региональных версий аппаратов Galaxy S10 и Galaxy S10+. Кроме того, новая технология будет применяться при выпуске собственных мобильных чипов Samsung следующего поколения.
Добавим, что в конце февраля компания Samsung объявила о начале монтажа на заводе в городе Хвасоне (Корея) новой линии по производству микросхем по технологии EUV. Завершение работ намечено на вторую половину 2019 года, а промышленное производство — на 2020 год. Первоначальные инвестиции в новую EUV-линию к 2020 году, по прогнозам, составят $6 млрд, а дополнительные инвестиции будут определяться потребностями рынка.
